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为了达到粗抛的目的，要求转盘转速较低，好不要超过500r/min；抛光时间应当比去掉划痕所需的时间长些，因为还要去掉变形层。粗抛后磨面光滑，但黯淡无光，在显微镜下观察有均匀细致的磨痕，有待精抛消除。圆管抛光机精抛时转盘速度可适当提高，亚克力自动磨圆机厂商，抛光时间以抛掉粗抛的损伤层为宜。精抛后磨面明亮如镜，在显微镜明视场条件下看不到划痕，但在相衬照明条件下则仍可见到磨痕。 抛光机抛光的好坏---影响试样的组织结构，已逐步引起有关的重视。
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